晶圆/芯片 制造工艺相关产品
3D TSV实装和FanOut作为下一世代的半导体封装工艺被广泛关注。J9集团化学拥有多种与先进封装生产制程中的材料,为提供的新工艺开发提供帮助。
晶圆级和芯片级封装中所使用的后制程材料
研磨布固定用双面胶带
研磨布固定胶带用于半导体前制程的研磨工艺上
SELFA
是一款通过UV照射可以产生气体,从而产生易剥离效果的UV胶带。通过高耐热性的单面膜HS系列,高耐热性的临时键合材料HW系列,高耐酸碱药液性的MP系列,帮助客户拓展新的工艺流程
Micropearl SOL
晶圆/芯片制造工艺相关产品一览
产品 分类 |
产品名 | 特征 | |
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微粒子 | 低复原率柔软均一树脂粒子 【Micropearl EZ】 |
由于该产品相对柔软,可以吸收周围的噪音震动,减少对基板的损害。也由于该粒子较低的复原率,可用于控制柔软材质的基材的厚度。 | 产品情报 |
UV假贴易解离胶带 | 耐热,高附着力,易剥离的UV胶带,用于半导体工艺 【SELFA HS】 |
结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV假贴易解离胶带。在各种PKG制造过程中可保护器件表面并抑制翘曲。 | 产品情报 |
UV假贴易解离胶带 | 高耐热,高粘附力,易剥离的双面UV胶带,用于临时键合工艺 【SELFA HW】 |
结合了耐半导体工艺特性+低残胶的UV假贴易解离胶带。用于玻璃乘载工艺時,保持高平坦度且兼顧操作使用時的安全。 | 产品情报 |
UV假贴易解离胶带 | UV自行剥离胶带用于化学镀金UBM工艺 【SELFA-MP】 |
具有高耐化学性和低残留性的UV剥離胶帶;透过UV照射产生气体,剥離時可减少對设备的损伤。 | 产品情报 |
胶带 | 液晶玻璃基板・CMP・HD基板 【研磨布固定用双面胶带】 |
具有高耐化学性的胶带,剥离后不会有粘合剂残留。用于在电子设备的抛光过程中固定研磨布。最大宽度2450毫米,适用于CMP工艺应用。 | 产品情报 |